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產品資料

SFCV-1003_小型CVD裝置_SATOVAC佐藤真空PHIL

SFCV-1003_小型CVD裝置_SATOVAC佐藤真空PHIL
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  • 產品名稱:SFCV-1003_小型CVD裝置_SATOVAC佐藤真空PHIL
  • 產品型號:SFCV-1003
  • 產品展商:PHIL佐藤真空株式會社
  • 產品文檔:無相關文檔
簡單介紹
SFCV-1003_小型CVD裝置_SATOVAC佐藤真空PHIL 大學?研究機関でグラフェンなど炭化水素系化合物での各種材料開発に適した、管狀爐式の高溫熱CVD裝置です。少量?小サイズのテストピースが簡単な操作で作れるように小型化し、同時に大幅なコストダウンを実現しました。
產品描述

SFCV-1003_小型CVD裝置_SATOVAC佐藤真空PHIL

大學?研究機関でグラフェンなど炭化水素系化合物での各種材料開発に適した、管狀爐式の高溫熱CVD裝置です。少量?小サイズのテストピースが簡単な操作で作れるように小型化し、同時に大幅なコストダウンを実現しました。
また、従來小型では困難とされてきた5~100Paでの圧力コントロール機能を備え、より多様な処理パターンに対応可能としました。さらこ炭化水素系の可燃性ガスに対しては、警報検出による機器停止、大気放出ガス希釈ユニットなどの**裝置を備えています。

主仕様


爐芯管 透明石英管(加熱溫度100~1000℃)
アルミナ管(加熱溫度1000~1400℃)
反応ガス供給 2~60sccm(水素、メタン、エタン、工チレン、アセチレン、ベンゼン等)
圧力コントロール 5~100Pa
可燃性ガス大気放出対策 エジェクタにより可燃混合範囲以下にエアで希釈排気

機器構成


型式 SFCV-1001 SFCV-1003 SFCV-1501
管狀爐 爐芯管 材質 透明石英管 アルミナ管
內徑 φ24mm、φ50mm φ24mm
加熱溫度 常用 100~1000℃ 500~1400℃
Max 1150℃ 1500℃
加熱域 1ゾーン 3ゾーン 1ゾーン
ヒータ容量 1.0kW 2.4kW 1.2kW
真空排気 油回転真空ポンプ 排気速度:100~150L/min
ガス供給 マスフローコントローラ 流量:10~100sccm
ガス管型フローメータ
ガス希釈 エアエジェクタ エア流量:15Nl/min
真空計 圧力制御 キャパシタンスマノメータ:0.133~1330Pa,100Pa~133kPa
大気復圧 デジタル連成計:-100kPa~+100kPa
制御 溫度制御 プログラム制御
圧力制御 バルブON/OFF制御
操作パネル 各機器スイッチ、プログラム溫調計、真空計
表示器:溫度、真空度、作動機器ON/OFF、警報、電源
電源  単相 100V?30A 100V?50A 200V?20A
外形寸法 W×D×H 1450×500×1200mm
質量 125kg 134kg 128kg

系統図



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